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二硫化钼靶材(MoS2)

二硫化钼靶材(MoS2)

纯度:99.9%


其他陶瓷靶材

氧化物靶材Oxide Sputtering Targets:  

氧化铝Al2O3;氧化铋Bi2O3;氧化镉CdO;氧化铬Cr2O3;氧化铜CuO;三氧化二铁Fe2O3;四氧化三铁Fe3O4;氧化镓Ga2O3;二氧化锗GeO2;氧化铪HfO2;氧化铟In2O3;氧化锂Li2O;氧化镁MgO;二氧化锰MnO2;四氧化三锰Mn3O4;碲化氧化钼MoO3;氧化铌Nb2O5;碲化NbOx;氧化镍NiO;氧化铅PbO;氧化锑Sb2O3;一氧化硅SiO;二氧化硅SiO2;二氧化锡SnO2;一氧化锡SnO;氧化钽Ta2O5;碲化Ta2Ox;二氧化钛TiO2;TiOx;一氧化钛TiO;氧化锆ZrO2;氧化钒V2O5;氧化钨WO3;氧化锌ZnO;氧化锆ZrO2; 稀土氧化物(氧化镧La2O3;氧化铈CeO2;氧化镨Pr6O11;氧化钕Nd2O3;氧化钐Sm2O3;氧化钆Gd2O3;氧化铽Tb4O11;氧化镝Dy2O3;氧化钬Ho2O3;氧化铒Er2O3;氧化铥Tm2O3;氧化镱Yb2O3;氧化镥Lu2O3;氧化钇Y2O3;氧化钪Sc2O3;) 


氮化物靶材Nitride Sputtering Targets:

氮化铝AlN;氮化铝钪AlScN, AlxSc(1-x)N;氮化钪ScN; 碲化氮化钆GdN; 氮化硼BN;氮化铬CrN;氮化铪HfN;氮化铌NbN;氮化硅Si3N4;氮化钽TaN;氮碳化钛TiCN;氮化钛TiN;氮化钒VN;氮化锆ZrN;氮化铝钛AlTiN; 


碳化物靶材Carbide Sputtering Targets:  

碳化铝Al4C3;碳化硼B4C;碳化铬Cr3C2;碳化铪HfC;碳化镧LaC2;碳化钼Mo2C;碳化铌NbC;碳化镍Ni3C;碳化硅SiC;碳化钽TaC;碳化钛TiC;碳化钒VC;碳化钨WC;碳化锆ZrC; 


氟化物靶材Fluoride Sputtering Targets: 

氟化钡BaF2;氟化钙CaF2;氟化锂LiF;氟化镁MgF2;氟化钠NaF; 氟化稀土(氟化镧LaF3;氟化铈CeF3;氟化钐SmF3;氟化钆GdF3;氟化铽TbF3;氟化镝DyF3;氟化钬HoF3;氟化铒ErF3;氟化镱YbF3;氟化钇YF3;氟化钪ScF3) 


硅化物靶材Silicide Sputtering Targets :

二硅化钴CoSi2;二硅化铬CrSi2;二硅化铪HfSi2;二硅化钼MoSi2;二硅化铌NbSi2;二硅化镍NiSi2;二硅化钽TaSi2;二硅化钛TiSi2;二硅化钒VSi2;二硅化钨WSi2;二硅化锆ZrSi2; 


硼化物靶材Boride Sputtering Targets: 

硼化铝AlB;硼化钴CoB;二硼化铬CrB2;硼化铁FeB;二硼化铪HfB2;六硼化镧LaB6;硼化钼Mo2B;硼化铌NbB2;二硼化钽TaB2;二硼化钛TiB2;二硼化钒VB2;二硼化钨WB2;二硼化锆ZrB2; 


硫化物靶材Sulfide Sputtering Targets: 

硫化银Ag2S;硫化砷As2S3;硫化铋Bi2S3;硫化镉CdS;硫化钴锡CoSnS;硫化铬Cr2S3;硫化铜铝CuAlS2;硫化铜镓CuGaS2;硫化铜铟镓CuInGaS;铜铟镓硒硫CuInGaSeS;硫化铜铟CuInS2;硫化铜CuS;硫化亚铜Cu2S;硫化铜锡CuSnS;硫化铜锑CuSbS;硫化铜锑锌CuSbZnS;硫化铜锌锡CuZnSnS;硫化铁FeS2;硫化镓GaS;三硫化二镓Ga2S3;硫化锗GeS;二硫化锗GeS2;三硫化二铟In2S3;二硫化钼MoS2;硫化铌NbS;硫化镍NiS2;硫化铅PbS;硫化锑Sb2S3;硫化锑硒SbSeS;硫化锡SnS;SnS2;硫化钛TiS2;硫化钽TaS2;硫化钨WS2;硫化锌镉ZnCdS; 


硒化物靶材Selenide Sputtering Targets:

三硒化二砷As2Se3;  硒碲化砷AsSeTe; 硒化铋Bi2Se3; 硒碲化铋BiSeTe; 硒化镉CdSe; 硒碲化镉CdTeSe; 硒化铜镓CuGaSe2; 硒化铜CuSe; 二硒化铜CuSe2;  铜铟镓硒CuIn0.7Ga0.3Se2;  硒化铜铟CuInSe2; 硒化铜锌锡CuZnSnSe; 硒化铒Er2Se3; 硒化铁FeSe; 硒砷化镓GaAsSe; 三硒化二镓Ga2Se3; 硒化钽镓GaTa4Se8; 一 硒化锗GeSe; 二硒化锗GeSe2; 三硒化二锗Ge2Se3; 锗砷硒碲GeAsSeTe; 锗碲硒GeTeSe; 锗砷硒GeAsSe; 一硒化铟InSe; 三硒化二铟In2Se3; 二硒化钼MoSe2; 二硒化铌NbSe2; 硒化铅PbSe; 三硒化二锑Sb2Se3; 二硒化钽TaSe2; 二硒化钨WSe2; 硒化锌ZnSe; 


碲化物靶材Telluride Sputtering Targets: 

碲化铝Al2Te3;碲化银Ag2Te;银铟锑碲AgInSbTe;碲化砷As2Te3;砷硒碲AsSeTe;碲化铋Bi2Te3;铋锑碲BiSbTe;铋硒碲BiSeTe;碲化镉CdTe;镉锌碲CdZnTe;碲化铜CuTe;碲化亚铜Cu2Te;碲化镓GaTe;三碲化二镓Ga2Te3;碲化锗GeTe;锗砷硒碲GeAsSeTe;锗铜碲GeCuTe;锗碲Ge2Sb2Te5;碲化铟In2Te3;铟锑碲InSbTe;碲化镁MgTe;碲化钼MoTe;MoTe2;碲化钠Na2Te;碲化铌NbTe2;碲化铅PbTe;碲化锑Sb2Te3;碲化钐SmTe;碲化锡SnTe;碲化钪Sc2Te3;ScTe;钪锑碲ScSbTe;碲化钽TaTe2;碲化钛TiTe2;钛锑碲TiSbTe;碲化铥TmTe;碲化钨WTe;WTe2;碲化镱YbTe;碲化锌ZnTe; 


砷化物靶材Arsenide Sputtering Targets: 

砷化铬Cr2As;砷化锡SnAs;砷化镉Cd3As2;砷化钴CoAs2;砷化铁FeAs;砷化镓GaAs;砷化铟InAs;砷化锗GeAs; 


锑化物靶材Antimonide Sputtering Targets: 

锑化铝AlSb;锑化铋Bi2Sb3;锑化镉Cd3Sb2;CdSb;锑化铈CeSb;锑化钴CoSb3;锑化铁FeSb;锑化锗GeSb;锑化锰MnSb;锑化钕NdSb;锑化镓GaSb;锑化铟InSb;In2Sb3;锑化铅PbSb;锑化锡SnSb;锑化锌ZnSb; 


磷化物靶材Phosphide Sputtering Targets: 

磷化铝AlP;磷化硼BP;磷化铜CuP;磷化镓GaP;磷化锗GeP;磷化铟InP;磷化钼MoP;磷化铌NbP;磷化NiP;磷化硅SiP;磷化钽TaP;磷化钨WP; 

其它化合物靶材 Other High Purity Multi-Compound Sputtering Targets: 

AgInS2;AgInTe2;BixSb1-xTe;CdInTe4;CuZnSnS;CIGS(CuInxGa1-xSe2);CIGSS(CuInxGa1-x(Se.S)2);CuInSe2;GaxAl1-xAs;GeSeAs(Si,Te);GeSbTe;PbxSn1-As;ZnIn2Te4;ZnxCd1-xTe; 


其它混合物靶材Other Mixture and brittle material Sputtering Targets:  

ATO;AZO;GZO;IGZO;ITO;IZO;YSZ;PZT; PbZrO3;SrZrO3;LaAl2O3;LaNbO3;LiNbO3;LSMO;CrSiO; ZrO2+SiO2;Al2O3+ZrO2;Al2O3+MgO;CaF2+CeF3;CuO+In2O3;Ta2O5+TiO2;Ta2O5+ZrO2; TiO2+Nb2O5 ;TiO2+ZrO2;YAG;YBaCuO; YGdCuBaO;BaTiO3;CaTiO3;FeTiO3;LaTiO3;Li2TiO3;SrTiO3;PbTiO3; Li3PO4;Ca10(PO4)6(OH)2;LiCoPO4;LiCuPO4;LiFePO4;LiMnPO4;LiTi2(PO4)3


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