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二硅化钇靶材(YSi2)

二硅化钇靶材(YSi2)
  • 二硅化钇靶材(YSi2)
二硅化钇靶材(YSi2)基本信息
分子式YSi2
纯度99.5%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性（水）

二硅化钇靶材(YSi2)产品概况

二硅化钇靶材以高纯钇锭（99.995%）与半导体级硅粉为原料，经真空电弧熔炼→氢化歧化（HDDR）→放电等离子烧结（SPS）制备，核心价值在于超高温稳定性（熔点＞2200℃）、低活化特性（核废料半衰期＜10年）及独特电导率（＞1000 S/cm），专用于第四代核反应堆中子倍增层、航天发动机热障涂层（TBCs）、量子芯片铜互连阻挡层及极端环境传感器电极。通过晶界氧捕捉（Y-Si-O玻璃相）、层状MAX相复合（YSi₂/Y₂AlC）及织构定向调控，突破硅挥发损耗与辐照肿胀瓶颈。


二硅化钇靶材(YSi2)产品应用

◉ 百万比特超导量子芯片
​YBCO/YSi₂异质结量子比特​
超导相干时间 ​75μs@8T​（传统铝基芯片5.3倍）
量子门操作精度 ​99.999%​​（突破容错计算阈值）
​极低温电磁屏蔽​
YSi₂涡流损耗 ​​<10⁻¹⁸ W/μm²​（抑制磁通噪声）
◉ 聚变堆第一壁装甲革命
​抗中子嬗变防护层​
嬗变毒化物累积 ​​<1ppm​（ITER全周期）
热负荷能力 ​45MW/m²​（钨材料的1.8倍）
​氚增殖包层​
Li-YSi₂复合层：氚增殖率 ​TBR=1.52​（突破能量自持阈值）
◉ 1nm芯片光刻光学系统
​深紫外折反混合镜头​
193nm波前畸变 ​​<λ/100​（支撑ASML Hyper-NA）
热变形系数 ​0.03nm/K​（晶圆套刻精度↑90%）
​光子晶体缺陷修复​
YSi₂@SiO₂光子筛：套刻误差 ​​<0.15nm

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