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钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)

钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)
  • 钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)
钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)基本信息
分子式Nd2Fe14B
纯度99.9%
CAS号918106-59-9
摩尔质量1081.125 g/mol
密度7.5 ~ 7.7 g/cm³
熔点1080 ~ 1200 ℃
沸点无明确沸点
溶解性（水）不溶于水；可被稀酸腐蚀，易氧化受潮（靶材及薄膜都需要防潮保护）

钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)产品概况

Nd₂Fe₁₄B 钕铁硼靶材是磁控溅射专用稀土永磁化合物靶材，目标是沉积 NdFeB 永磁薄膜。

  • 制备工艺：真空熔炼或粉末冶金，再精加工、绑定铜背板 / 铜背管；靶材相对密度一般≥95%，控制晶粒尺寸，降低溅射时打火、结瘤、颗粒缺陷；

  • 材质特点：本相硬磁，居里温度约 310℃，薄磁膜沉积后可通过退火晶化获得硬磁性能；稀土活性高，靶材储存、使用环境需要低氧低湿；

  • 形态：圆靶、方靶、管状旋转靶，按需定制尺寸，背靶绑定常用无氧铜。


钕铁硼靶材（Nd-Fe-B)产品应用

薄膜应用：
1. 微电机 / 微型执行器：MEMS 微型永磁薄膜、微型振动马达、微型泵、微型阀门；
2. 磁存储与磁传感：磁传感器、磁霍尔器件、磁随机存储 MRAM 永磁参考层；
3. 光通信、微光学器件：光开关、微型光隔离器、微磁光元件；
4. 微型电磁器件：薄膜永磁、柔性磁膜、微型扬声器；
5. 科研与实验室：磁控溅射沉积永磁薄膜，稀土磁性薄膜基础研究。

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