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产品中心
PRODUCTS
镍镁靶材（Ni-Mg）
| 镍镁靶材（Ni-Mg）基本信息 | |
| 分子式 | Ni-Mg |
| 纯度 | 99.9% |
| CAS号 | 无独立CAS 号 |
| 摩尔质量 | 随配比变化 |
| 密度 | 5.6~7.8 g/cm³ |
| 熔点 | 508~1150 ℃ |
| 沸点 | 无固定沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于纯水；镁化学活性很高，遇酸快速反应，可溶于稀盐酸、稀硫酸 |
镍镁靶材（Ni-Mg）产品概况
镍镁溅射靶材采用高纯镍、高纯镁原料制备，镁极易氧化、易挥发，制备必须在真空 / 保护气氛下熔炼或粉末冶金热压。可加工圆片、方板、棒状、塞子靶，可钎焊绑定无氧铜背板。
材料特点：Ni-Mg 为多相合金，内部存在 Mg₂Ni 金属间化合物；溅射制备的薄膜具备储氢特性、可调电化学活性；镁极易氧化，靶材储存、转运、镀膜腔体均需要低氧低湿环境；
质控要点：成分均匀度、低氧含量、高致密度，减少溅射时颗粒、打火；Mg 偏析是该靶材最大难点；
形态：可定制尺寸，棒材可裁切为塞子靶；
储存：真空密封包装，常温干燥避光，严禁暴露潮湿空气。
提示：镍镁靶和普通镍铬、镍钽不同，不能在大气长时间放置，表面极易生成氧化镁。
| 镍镁靶材（Ni-Mg）产品应用 |
薄膜应用：
1. 储氢薄膜：Mg₂Ni 基储氢薄膜，氢传感器、固态储氢器件（最主要应用方向）
2. MEMS 电化学器件：微电池、可降解薄膜电极、电化学传感器薄膜
3. 催化薄膜：氢气重整、甲烷催化转化催化层
4. 电磁屏蔽薄膜：轻量化电磁屏蔽涂层
5. 科研实验：磁控溅射制备镁镍金属间化合物薄膜、相变薄膜、合金相图研究
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