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镍铬合金塞子(Ni-Cr)

镍铬合金塞子(Ni-Cr)
  • 镍铬合金塞子(Ni-Cr)
镍铬合金塞子(Ni-Cr)基本信息
分子式Ni20Cr80wt%
纯度99.9%
CAS号11106-97-1
摩尔质量110.69 g/mol
密度8.4 g/cm³
熔点约 1400 ℃
沸点无固定单一沸点,高温先挥发分解
溶解性(水)不溶于水;可被稀硝酸、浓盐酸等强酸腐蚀

镍铬合金塞子(Ni-Cr)产品概况

镍铬塞子靶是小型柱状 / 短圆柱塞式镍铬合金溅射靶,采用真空熔炼 + 锻造 / 粉末冶金制备,精加工成塞头结构,可直接装入小型溅射源,无需大型背板,多用于多靶共溅射设备、科研镀膜机。

  • 材质:Ni-Cr 固溶合金,最常用 Ni80Cr20;薄膜电阻专用牌号控制杂质(Fe、Si、C、O),保证低 TCR(电阻温度系数);

  • 结构:圆柱形塞子,端面为溅射面,可带螺纹 / 台阶定位结构;

  • 靶材优势:溅射工艺稳定,沉积的 NiCr 薄膜附着力好,耐氧化、耐腐蚀,薄膜电阻温度系数低;

  • 储存:干燥密封保存,避免长期潮湿环境氧化。

备注:塞子靶只是外形结构分类,材料本质就是镍铬合金靶,区别于大圆片靶、旋转管靶。


镍铬合金塞子(Ni-Cr)产品应用

薄膜应用:
1. 精密薄膜电阻(最核心):混合集成电路、薄膜电阻网络、芯片内置电阻、应变计敏感膜,NiCr 薄膜 TCR 低,温漂小;
2. MEMS 与传感器:微加热器、压力应变薄膜、微流控芯片加热层;
3. 半导体与微电子:晶圆上阻性薄膜、抗腐蚀保护层;
4. 光学 / 装饰涂层:耐蚀耐磨金属保护膜;
5. 科研实验:实验室磁控溅射、多靶共溅射,制备多层膜、梯度成分薄膜。

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