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镍钽合金靶材(NiTa)

镍钽合金靶材(NiTa)
  • 镍钽合金靶材(NiTa)
镍钽合金靶材(NiTa)基本信息
分子式Ni-Ta
纯度99.95%
CAS号无单独 CAS 编号
摩尔质量随配比变化
密度11.2~12.8 g/cm³
熔点1450~1700 ℃
沸点无统一沸点
溶解性(水)不溶于水;常温耐大部分弱酸,耐蚀性优异;可被氢氟酸、热浓酸腐蚀;在熔融碱、强腐蚀熔盐中会缓慢侵蚀。

镍钽合金靶材(NiTa)产品概况

 镍钽靶材由高纯镍、高纯钽原料制备,制备工艺分为真空熔炼锻造或粉末冶金两种路线,可加工成圆片、方板、棒材、塞子靶,可钎焊绑定无氧铜背板。

  • 材料特点:兼具 Ni 的塑性与 Ta 的高耐蚀、耐高温、扩散阻挡能力;薄膜致密,抗高温氧化、抗金属离子扩散能力强;

  • 核心质控点:成分均匀性、低氧、高密度、细晶组织,减少溅射打火与颗粒污染;

  • 储存:真空密封干燥存放,防止表面氧化。

    说明:镍钽靶是配比定制化靶材,客户可指定原子比或质量比,不同配比薄膜性能差异很大。


镍钽合金靶材(NiTa)产品应用

薄膜应用:
1. 半导体集成电路:铜互连体系扩散阻挡层,阻挡 Cu 向介质层扩散;功率器件、存储器件的阻挡薄膜
2. 高温耐蚀防护涂层:航空航天、燃气涡轮零部件耐高温抗氧化薄膜,抗熔融金属腐蚀保护层
3. MEMS 与传感器:高温工况微器件的耐蚀导电薄膜、应变薄膜
4. 核能领域:熔盐堆、钠冷快堆的抗液态金属腐蚀防护薄膜(科研方向)
5. 科研镀膜:磁控溅射、共溅射实验,制备耐蚀多层膜、扩散阻挡体系、难熔合金薄膜

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