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钴铁硼靶材（Co-Fe-B）

钴铁硼靶材（Co-Fe-B）
  • 钴铁硼靶材（Co-Fe-B）
钴铁硼靶材（Co-Fe-B）基本信息
分子式Co-Fe-B
纯度99.9%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性（水）

钴铁硼靶材（Co-Fe-B）产品概况

        钴铁硼合金（Co-Fe-B）靶材采用超高纯度钴（≥99.995%）、羰基铁粉（≥99.98%）和非晶硼（≥99.9%）为原料，通过真空快淬制带+等离子球化+超高压热等静压（200MPa）工艺制备的永磁功能溅射靶材。核心特性包括：

•精密成分控制（B 10-30at.%，Co/Fe比1:1±5%）

•纳米复合结构（硬磁相：FeCo微晶＜50nm，软磁相：Co₂B非晶边界）

•极限低氧含量（O＜80ppm，C＜50ppm）

•理论密度＞99.3%（闭孔率＜0.05%）
    在磁控溅射中实现磁能积（BH）max＞398kJ/m³，薄膜垂直磁各向异性场**＞25kOe**。

核心价值源于纳米双相磁耦合机制

➊ 超高磁能积

·最大磁能积(BH)max=398kJ/m;(接近理论极限值90%)

·剩磁矫顽力 Hcb>1.8T(高温稳定性核心指标)

➋ 热稳定性突破

·居里温度 Tc=880K(比NdFeB提升200K)

·温度系数**|α|<0.05%/°℃**(-60~200℃℃全温区稳定)

➌ 极端环境耐久性

·耐湿热性(85°C/85%RH 1000小时磁损<1%)

·抗辐照性(100kGy y射线后磁能积衰减<3%)


钴铁硼靶材（Co-Fe-B）产品应用

主导应用覆盖尖端机电与量子系统​
◉ ​微型化机电系统​
▸ 微型电机永磁转子薄膜（功率密度 ​**＞5kW/kg**）
▸ MEMS磁开关驱动层（响应时间 ​​＜1μs）
◉ ​超高密度磁存储​
▸ 垂直磁记录介质层（存储密度 ​**＞10Tb/in²**）
▸ 自旋轨道矩存储器固定层（热稳定性 ​**＞10年**）
◉ ​量子精密仪器​
▸ 原子磁力仪永磁偏置场膜（背景场均匀性 ​​＜0.1%​）
▸ 超导量子比特磁屏蔽层（退相干时间 ​**＞300μs**）
◉ ​生物医学植入器械​
▸ 磁控靶向药物载体永磁层（磁场梯度 ​**＞50T/m**）
▸ 神经刺激器磁屏蔽膜（漏磁 ​​＜0.01%​）

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