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钴铁硼靶材(Co-Fe-B)

钴铁硼靶材(Co-Fe-B)
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钴铁硼靶材(Co-Fe-B)基本信息
分子式CoFeB
纯度99.9%
CAS号无独立 CAS 号
摩尔质量随组分变化
密度约 8.7~8.9 g/cm³
熔点约 1230~1280 ℃(随成分波动,无单一熔点)
沸点无固定沸点
溶解性(水)不溶于水;可被稀硝酸、强酸腐蚀;常温空气中缓慢氧化

钴铁硼靶材(Co-Fe-B)产品概况

 钴铁硼 CoFeB 为银灰色金属合金靶,溅射沉积后易形成非晶软磁薄膜,是自旋电子领域核心磁性材料。硼元素的加入可抑制晶化,降低矫顽力,薄膜具有高饱和磁化强度、高隧穿磁阻 TMR,易于获得垂直磁各向异性(PMA)。 制备工艺:高纯 Co、Fe、B 原料真空熔炼制锭或合金粉末,热等静压 HIP 成型,精密机加工抛光后绑定铜背板。

 ⚠️ 关键要点:靶材易氧化,存储建议真空封装;镀膜时控制基底退火工艺,获得高质量非晶 CoFeB 薄膜;成分均匀性是核心指标,直接影响 MRAM 器件良率。 

适用工艺:磁控溅射,用于制备磁性隧道结 MTJ 多层膜。       

钴铁硼靶材(Co-Fe-B)产品应用

薄膜应用:
1. MRAM 磁阻存储器:磁性隧道结 MTJ 的自由层、参考层,新一代非易失存储芯片,是 CoFeB 最核心应用。
2. 自旋电子器件:自旋转移力矩器件、自旋逻辑器件、垂直磁各向异性多层膜。
3. 高灵敏度磁传感器:TMR 隧道磁阻传感器、磁场探头、硬盘读写磁头。
4. 射频微波器件:片上射频电感、微波软磁薄膜、电磁屏蔽层,高频低损耗。
5. 基础科研:自旋输运、磁性异质结、磁光薄膜等前沿磁性薄膜研究。

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