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锰三锡靶材(Mn3Sn)

锰三锡靶材(Mn3Sn)
  • 锰三锡靶材(Mn3Sn)
锰三锡靶材(Mn3Sn)基本信息
分子式Mn3Sn
纯度99.9%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性(水)

锰三锡靶材(Mn3Sn)产品概况

        锰三锡合金(Mn₃Sn)靶材采用超高纯锰(≥99.995%)与区域熔炼锡(≥99.999%)为原料,通过真空感应熔炼+热等静压(HIP)工艺制备的拓扑磁电子功能溅射靶材。核心特性包括:

•精准化学计量比(Mn:Sn=3:1±0.2at.%)

D0₁₉有序晶体结构(长程有序度>95%)

超低磁损耗(矫顽力Hc<5 Oe)

极限杂质控制(O<50ppm, C<20ppm, Fe<1ppm)

理论密度>99.0%(闭孔率<0.1%)
在低温磁控溅射(≤200℃)中实现薄膜反常霍尔电导率>650 S/cm,自旋极化率**>85%**(室温)。

核心价值源于拓扑磁结构与反铁磁序协同

➊ 零场量子输运特性

·室温反常霍尔角 **>0.15(零磁场下实现,超越铁磁材料极限)

·自旋轨道矩效率 >0.5(电流驱动磁化翻转能耗 <10 f/bit**)

➋ 多铁性耦合响应

·磁电耦合系数 α=180 ps/m(电场调控磁矩效率提升300%)

·压磁系数 d入dP>5x10-°m/A(应力-自旋高效转换)

➌ 极端环境稳定性

·抗辐照性能(100kGy y射线后磁序稳定性>98%)

·耐湿热特性(85°C/85%RH 1000小时电导率衰减<2%)


锰三锡靶材(Mn3Sn)产品应用

非线性反铁磁Mn3Sn多晶薄膜显著表现出反常霍尔效应(AHE)、反常能斯特效应(ANE)等众多优异的物理性能,成为下一代室温自旋电子器件的重要候选材料。
◉ ​超高密度磁存储器​
▸ 反铁磁自旋轨道矩存储器(SOT-MRAM)电极层(写入速度 ​​<0.1ns)
▸ 赛道存储器(Racetrack)畴壁驱动层(能耗 ​​<1 fJ/bit)
◉ ​神经形态计算芯片​
▸ 人工突触权重层(电导调控线性度 ​**>99%​**)
▸ 磁神经元激活函数层(响应频率 ​**>10GHz**)
◉ ​量子信息器件​
▸ 拓扑量子比特磁噪声屏蔽层(退相干时间 ​**>300μs**)
▸ 马约拉纳零能模衬底界面(拓扑保护能隙 ​**>0.1meV**)
◉ ​高频通信系统​
▸ 太赫兹自旋波调制器(工作频段 ​0.1-3THz)
▸ 6G可重构智能表面(RIS)移相单元

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