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氮化钼靶材(MoN)

氮化钼靶材(MoN)
  • 氮化钼靶材(MoN)
氮化钼靶材(MoN)基本信息
分子式MoN
纯度99.5%
CAS号12033-19-1
摩尔质量109.95 g/mol
密度9.20 g/cm³
熔点1750 ℃
沸点无常压沸点,高温优先分解,不气化
溶解性(水)不溶于水、稀酸;可被王水、浓硝酸、浓硫酸缓慢腐蚀;强碱共熔会分解释放氨气

氮化钼靶材(MoN)产品概况

氮化钼(MoN)是六方晶系过渡金属氮化物,深灰色硬质固体,兼具金属导电性 + 陶瓷高硬度、耐蚀、热稳定特性。 氮化钼溅射靶材采用粉末冶金、热压、SPS 热等离子烧结工艺制备,可加工圆盘靶、矩形板靶、旋转管靶,可绑定铜背板。 材料特点:电阻率低、功函数高、热稳定性优良;薄膜具有高硬度、耐磨抗腐蚀;低温稳定,高温空气环境下会逐步氧化生成钼氧化物。

氮化钼靶材(MoN)产品应用

薄膜应用:
1. 半导体集成电路(核心应用):DRAM、3D NAND、先进逻辑器件 GAA 晶体管,用作金属栅极、扩散阻挡层、接触阻挡层,抑制金属与硅基底互扩散,调控功函数,降低漏电流。
2. 储能器件:超级电容器、锂离子电池薄膜电极材料,具备优良电化学储能特性。
3. 硬质耐磨防护涂层:刀具、模具 PVD 耐磨耐腐蚀薄膜,提升表面硬度与抗磨损能力。
4. 催化薄膜:加氢脱硫、加氢催化薄膜,具有类贵金属催化特性。
5. MEMS 与传感器:微机电系统电极、高温薄膜传感器导电层。

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