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氮化硼靶材（BN）

氮化硼靶材（BN）
  • 氮化硼靶材（BN）
氮化硼靶材（BN）基本信息
分子式BN
纯度99.5%
CAS号10043-11-5
摩尔质量24.82 g/mol
密度2.0～2.2 g/cm³
熔点无单一熔点
沸点无固定沸点
溶解性（水）不溶于水、乙醇；耐大多数酸碱；高温熔融碱可腐蚀

氮化硼靶材（BN）产品概况

氮化硼靶材（h-BN 六方氮化硼），高纯陶瓷靶，外观白色 / 奶白色，层状晶体结构；主流制备工艺：热压、HIP 热等静压，可做圆靶、方靶、环靶，可绑定铜背靶；宽带隙、高绝缘、面内导热好、化学惰性、低介电、具备润滑特性；一般采用 RF 射频溅射，不能直流溅射。



氮化硼靶材（BN）产品应用

薄膜应用：
1. 二维材料 / 科研领域：hBN 封装层、栅介质、异质结衬底，石墨烯、MoS₂等二维器件；
2. 半导体器件：高 k 绝缘层、钝化保护层、器件隔离层、高频器件介质膜；
3. 中子探测：硼元素对中子敏感，制备中子探测薄膜；
4. 光学镀膜：紫外、深紫外光学保护膜、抗反射膜，耐温光学涂层；
5. 高温防护涂层：耐腐蚀、抗氧化绝缘涂层；
6. MEMS、功率器件：散热绝缘复合薄膜；
7. 特种真空、等离子设备绝缘涂层

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