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铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)

铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)
  • 铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)
铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)基本信息
分子式Nb-ITO
纯度99.9%
CAS号无独立 CAS 号
摩尔质量无固定摩尔质量
密度7.14 g/cm³
熔点约 1910 ℃;高温下氧化铟易挥发
沸点无固定沸点
溶解性(水)不溶于水;耐稀酸稀碱;可被浓强酸缓慢腐蚀

铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)产品概况

铌掺杂氧化铟锡(Nb:ITO),灰黑色 / 蓝黑色多晶陶瓷靶材,在传统 ITO 晶格中引入 Nb⁵⁺掺杂改性。 Nb 掺杂可调控载流子浓度、提高载流子迁移率,降低薄膜电阻率,提升近红外透光性能,同时增强薄膜热稳定性,退火后电阻漂移更小。 制备工艺:高纯氧化铟、氧化锡、五氧化二铌粉体配料,固相混合煅烧→成型→高温常压烧结;靶材脆性较大,加工搬运防崩边。 适用工艺:磁控溅射、PLD;溅射一般采用 DC,可通入微量氧气优化薄膜光电性能;干燥常温保存即可,不易吸潮。


铌掺杂氧化铟锡靶材(Nb-ITO)产品应用

薄膜应用:
1. 钙钛矿太阳能电池:透明导电电极,近红外高透,提升电池光电转换效率,减少高温退火电阻劣化。
2. OLED、LCD 平板显示:高稳定透明导电薄膜,像素电极、触控屏导电层。
3. 红外光学器件:红外窗口、红外探测器透明导电层,相比普通 ITO,近红外透过更优。
4. 光电传感器、光电二极管:高迁移率透明电极。
5. 柔性光电器件:柔性基底透明导电膜,提升弯折稳定性。
6. 科研实验:TCO 透明导电氧化物薄膜、异质结、光电器件基础研究。

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