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铌酸锂靶材(LiNbO3)

铌酸锂靶材(LiNbO3)
  • 铌酸锂靶材(LiNbO3)
铌酸锂靶材(LiNbO3)基本信息
分子式LiNbO3
纯度99.9%
CAS号12031-63-9
摩尔质量147.85 g/mol
密度4.65 g/cm³
熔点1253 ℃
沸点无明确沸点,高温熔融分解,不挥发
溶解性(水)不溶于水、乙醇

铌酸锂靶材(LiNbO3)产品概况

铌酸锂靶材为高纯氧化物陶瓷射频溅射靶,原料采用高纯碳酸锂、五氧化二铌固相合成铌酸锂粉体,经干压 / 等静压成型、高温烧结、精密研磨抛光,可铟焊绑定铜背板;可定制圆靶、矩形靶。

  • 外观:白色 / 浅灰白色陶瓷脆性固体

  • 溅射方式:RF 射频溅射(不能 DC 直流溅射,绝缘)

  • 核心特性:具备优异电光、压电、铁电、声光、非线性光学效应,是集成光子最核心材料之一;可制备纯铌酸锂薄膜,也可定制镁掺杂、铒掺杂铌酸锂靶材。


铌酸锂靶材(LiNbO3)产品应用

薄膜应用:
1. 硅基光电子 / 集成光子芯片(核心应用):高速电光调制器、光波导、光开关,光纤通信、5G/6G 光通信芯片,是当前铌酸锂薄膜最大工业方向。
2. 声表面波 SAW 器件:SAW 滤波器、射频传感器,无线通信器件,压电薄膜。
3. 非线性光学与激光器件:激光倍频、Q 开关、普克尔盒、光参量振荡元件,红外 / 可见光光学镀膜。
4. MEMS 与微传感器:压电微机电、红外热释电传感器、光电探测器薄膜。
5. 半导体与科研:铁电薄膜、光电薄膜基础研发;掺杂铌酸锂薄膜用于光增益、光存储研究。

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