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铝硅颗粒(Al-Si)

铝硅颗粒(Al-Si)
  • 铝硅颗粒(Al-Si)
铝硅颗粒(Al-Si)基本信息
分子式Al-Si
纯度99.99%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性(水)

铝硅颗粒(Al-Si)产品概况

       铝硅合金(Si 10-50at.%)靶材采用电子级铝锭(≥99.999%)与区熔提纯硅(≥99.9999%)为原料,通过真空感应熔炼+急速定向凝固工艺制备的共晶功能溅射靶材。核心特性包括:

•精密共晶控制(硅相尺寸0.1-2μm,共晶点Si12.6%±0.2%)

超低杂质水平(Na/K<0.1ppm,Fe<3ppm,O<30ppm)

理论密度>99.3%(闭孔率<0.02%)

晶向优化((111)面织构度>90%,半导体工艺兼容)
在DC/RF磁控溅射中实现膜层电阻率3-10μΩ·cm可调,阶梯覆盖性**>95%**(深宽比5:1结构)。

核心价值源于铝硅共晶协同效应

➊ 亚微米级互连集成

•电迁移阈值**>107A/cm?(比纯铝提升100倍)

•线宽缩微能力≤0.1um**((适配3nm制程节点)

➋ 光电热三重复合特性

·太阳吸收比α=0.92-0.96(全光谱优化)

·热膨胀系数(4.5±0.2)x10-“/K(硅衬底完美匹配)

·塞贝克系数**>150uV/K**(微温差发电)

➌ 极端环境可靠性

·抗电化学迁移能力**>1000h@85°℃/85%RH**

·450°C退火相变稳定性(晶粒尺寸变化<10%)



铝硅颗粒(Al-Si)产品应用

铝硅合金,无论是过共晶或亚共晶合金都已经被广泛地应用到汽车制造、焊接、航天航空等工业生产领域中。
◉ ​先进半导体制造​
▸ 3D-NAND存储单元垂直互联导线(深宽比10:1填充)
▸ FinFET栅极侧墙自对准接触层(漏电流​<10⁻¹⁰A/μm)
◉ ​薄膜光伏技术​
▸ 异质结太阳电池(HJT)纳米晶硅背反射电极(短路电流**>40mA/cm²**)
▸ 钙钛矿/硅叠层电池隧穿复合层(电压损失​<0.05V)
◉ ​微系统热管理​
▸ 2.5D封装硅中介层热扩散膜(热阻​<0.2℃·cm²/W)
▸ 功率器件铜柱凸块抗电迁移阻挡层
◉ ​智能传感系统​
▸ MEMS红外探测器吸收层(比探测率**>10¹⁰ Jones**)
▸ 微能源收集热电薄膜(功率密度**>20μW/cm²@ΔT=10K**)

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