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高纯钆靶材(Gd)

高纯钆靶材(Gd)
  • 高纯钆靶材(Gd)
高纯钆靶材(Gd)基本信息
分子式Gd
纯度99.9%
CAS号7440-54-2
摩尔质量157.25 g/mol
密度7.89 g/cm³
熔点1313 ℃
沸点3273 ℃
溶解性(水)不溶于水;可溶于稀酸,缓慢和水反应

高纯钆靶材(Gd)产品概况

钆靶材为银白色可锻稀土金属靶,六方密堆积结构,室温附近(约 19℃)有居里点,具备巨磁热效应、高中子吸收截面;一般采用真空熔炼、锻造加工,可做成圆靶、方靶,支持背铜绑定;活性较高,在潮湿空气里易氧化发黑,需要真空 / 氩气密封保存;溅射时容易氧化,优先控制低氧气氛。

高纯钆靶材(Gd)产品应用

薄膜应用:
1. 自旋电子、磁存储、MRAM、磁性薄膜、磁传感器
2. 中子吸收薄膜、核辐射屏蔽薄膜
3. 磁制冷薄膜材料
4. 高 k 介质、稀土掺杂功能薄膜、外延缓冲层
5. 光学、荧光、激光相关稀土薄膜
6. 科研镀膜、稀土多层膜体系

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