氧化钆靶材（Gd2O3）Product overview

氧化钆（Gd2O3）薄膜具有高电阻率、高介电常数和宽带隙等特点.

氧化钇颗粒以高纯金属钆（Gd，≥99.99%）为原料，通过 真空氧化-等离子体球化 工艺制备的稀土功能材料，主相为立方晶系C型稀土氧化物（Ia-3空间群），粒径范围0.1-100 μm（可定制单分散亚微米球），纯度≥99.995%（4N5级），白度＞98%（ISO 2470）。其具备 超高热中子俘获截面（49,000 barn）、巨磁热效应（磁熵变＞4 J/kg·K @2T）及荧光敏化能力（激发波长275nm→612nm红移），专用于核反应堆中子吸收体、磁制冷工质、X射线增感屏及高折射率光学玻璃。通过 晶格掺杂（Eu³⁺/Tb³⁺）、表面硅烷化修饰 及 多级孔结构设计，满足核电辐射屏蔽、极低温制冷及生物成像对材料纯度、能量转换效率及分散稳定性的严苛需求。

用作钇铝和钇铁石榴石掺入剂、医疗器械中的增感荧光材料、核反应堆控制材料、金属钆的制取原料、制磁泡材料和光学棱镜添加剂等
1.​核能与辐射防护​
​核反应堆控制棒​：
Gd₂O₃-B₄C陶瓷体（体积分数50%）→ 中子吸收效率＞99.9%（热中子）
​医用辐射防护​：
X射线防护服（30% Gd₂O₃/聚乙烯层）→ 屏蔽效率＞90% @100 kV
2.​制冷与能源转换​
​磁制冷系统​：
室温磁制冷工质（Gd₂O₃@LaFeSi复合颗粒）→ 温跨＞15 K（主动回热循环）
​固态热电池​：
Gd₂O₃/SiGe热电转换层 → ZT=0.75 @400℃
​3.生物医学与光学​
​MRI造影增强剂​：
PEG修饰Gd₂O₃纳米粒（d=20 nm）→ T1弛豫率＞12 mM⁻¹s⁻¹
​高折射光学玻璃​：
掺入15% Gd₂O₃ → n_d=1.92，阿贝数55（透光波段400-2500 nm）