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产品中心
PRODUCTS
氧化钕靶材（Nd2O3）
| 氧化钕靶材（Nd2O3）基本信息 | |
| 分子式 | Nd2O3 |
| 纯度 | 99.9% |
| CAS号 | 1313-97-9 |
| 摩尔质量 | 336.48 g/mol |
| 密度 | 7.24 g/cm3 |
| 熔点 | 2270 ℃ |
| 沸点 | 3760 ℃ |
| 溶解性（水） | 几乎不溶于水；可溶于稀无机酸（盐酸、硝酸等）生成钕盐；空气中易吸潮、吸收 CO₂ |
氧化钕靶材（Nd2O3）产品概况
氧化钕为淡蓝紫色稀土氧化物粉体烧结而成的陶瓷靶材，一般采用高纯 Nd₂O₃粉冷压 + 常压烧结 / 热压 / HIP 制备；粉体本身容易吸水、碳酸化，烧结、绑定、存放对水汽管控要求高。 通过磁控溅射沉积稀土氧化物薄膜，利用 Nd³⁺独特 4f 电子结构，获得磁光、荧光、介电、稀土掺杂功能膜层；溅射时需要留意靶材绝缘特性，多用射频溅射。
| 氧化钕靶材（Nd2O3）产品应用 |
薄膜应用“
1. 磁光薄膜、光隔离器件：磁光介质薄膜、法拉第旋光薄膜、光通讯隔离器科研试样
2. 激光与光学薄膜：激光晶体掺杂前驱膜、光学滤光膜、特种着色光学涂层
3. 介电薄膜、微电子：高 k 介电层、栅介质、稀土掺杂改性薄膜
4. 荧光、光电催化薄膜：发光功能层、光电催化、气敏薄膜研究
5. 永磁相关薄膜科研：钕基永磁薄膜前驱层、稀土掺杂改性磁性薄膜
6. 基础凝聚态科研：稀土 4f 电子、低温磁学、离子导体薄膜实验
产品需求
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