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产品中心
PRODUCTS
氧化铒靶材（Er2O3）
| 氧化铒靶材（Er2O3）基本信息 | |
| 分子式 | Er2O3 |
| 纯度 | 99.9% |
| CAS号 | 12061-16-4 |
| 摩尔质量 | 382.56 |
| 密度 | 8.64 g/cm3 |
| 熔点 | 2344 °C |
| 沸点 | 3290 °C |
| 溶解性（水） | |
氧化铒靶材（Er2O3）产品概况
氧化铒靶材是一种以三氧化二铒 (Er₂O₃) 为核心成分的高技术陶瓷溅射靶材。采用高纯度（通常≥99.9%）氧化铒原料，通过先进的粉末冶金或热等静压（HIP）烧结工艺制备而成，具备高密度、优异的微观结构均匀性和化学稳定性，确保在物理气相沉积（PVD，主要是磁控溅射）过程中实现稳定、高效和均匀的薄膜沉积。
该靶材的核心价值源于稀土元素铒（Er³⁺）独特的光学特性。利用溅射技术在基底上沉积得到的 氧化铒薄膜，因其内部的 Er³⁺离子 具有特殊的能级结构，在受到特定波长（通常为约980nm或1480nm）的光泵浦激发后，能在关键的 1550nm 通信波段 产生高效的受激发射（光放大效应）。这一特性是其最重要的应用基础。
因此，氧化铒薄膜是实现高性能 光放大功能 的不可或缺材料。其主要应用集中在：
掺铒光纤放大器：构成 EDFA 的核心增益介质层，是现代长距离光纤通信网络信号中继和放大的基石。
集成光波导放大器/激光器：在硅基光电子、铌酸锂光电子等集成光子芯片中，作为实现片上光放大与激光发射的有源功能层。
特种光学薄膜与传感器：利用其在特定波长的光敏或荧光特性，用于制备高灵敏传感器或特殊光学涂层。
| 氧化铒靶材（Er2O3）产品应用 |
◉ 光通信与激光器件
应用器件：硅基光子集成芯片（PIC）、EDFA光纤放大器。
功能需求：
1550nm波段增益系数＞2 dB/cm；
与SiO₂波导的折射率差Δn≥0.4。
靶材优势：
高纯度Er³⁺离子提供¹⁴I₁₃/₂→¹⁴I₁₅/₂能级跃迁；
精确化学计量比抑制荧光淬灭缺陷。
◉ 核工业防护
应用场景：核反应堆控制棒中子吸收层、乏燃料容器涂层。
功能需求：
热中子吸收率＞99.9%（100μm膜厚）；
抗辐照肿胀（＞10²¹ n/cm²通量）。
靶材优势：
Er天然丰度100%，同位素无分离需求；
高温相稳定性（＞1200℃无相变）。
◉ 特种传感器
应用器件：抗辐射温度传感器、中子通量探测器。
功能需求：薄膜电阻温度系数（TCR）＞0.5%/K。
靶材优势：溅射膜中Er³⁺能级对温度敏感（Stark分裂）。
产品需求
PRODUCT DEMAND
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