科泰新材料可提供“元索周期表”近乎全元素(除放射性元素外)的任意组合材料定制,
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| 二氧化硅靶材(SiO2)基本信息 | |
| 分子式 | SiO2 |
| 纯度 | 99.99% |
| CAS号 | 14808-60-7 |
| 摩尔质量 | 60.08 g/mol |
| 密度 | 2.2 g/cm³ |
| 熔点 | 1713 ℃ |
| 沸点 | 2230 ℃ |
| 溶解性(水) | 不溶于水、酸(氢氟酸除外);可与 HF 反应生成 SiF₄;溶于浓强碱溶液。 |
二氧化硅靶材属于氧化物陶瓷靶材,是绝缘介质溅射靶材,一般采用热压烧结 / 常压烧结工艺制成,形态有圆靶、方靶、带背板绑定靶(铜背板为主)。 SiO₂靶为介电材料,溅射后形成二氧化硅薄膜,薄膜具备高绝缘、高透光、低介电常数、化学稳定性好等特点。靶材烧结体脆性较大,导热差,溅射时功率不能过高,常使用射频溅射(RF),不能直流溅射。
| 二氧化硅靶材(SiO2)产品应用 |
薄膜应用:
1. 半导体行业:晶圆介质层、钝化保护层、浅沟槽隔离层、芯片表面绝缘保护膜。
2. 光学镀膜:光学镜片增透膜、滤光片、反光膜,SiO₂是最常用的低折射率光学薄膜材料。
3. 显示面板:LCD/OLED 薄膜封装、绝缘层、阻挡层。
4. 光伏行业:太阳能电池减反膜、钝化层。
5. 其他:传感器保护膜、金属防腐绝缘涂层