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产品中心
PRODUCTS
氧化铌靶材（NbOx）
| 氧化铌靶材（NbOx）基本信息 | |
| 分子式 | NbOx（x=2.0~2.5，非固定计量比） |
| 纯度 | 99.99% |
| CAS号 | 无独立CAS号 |
| 摩尔质量 | 无固定摩尔质量 |
| 密度 | 4.3～5.2 g/cm³ |
| 熔点 | 无单一熔点 |
| 沸点 | 无固定沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于水；耐稀酸，可溶于氢氟酸、热浓强碱、熔融硫酸盐 |
氧化铌靶材（NbOx）产品概况
NbOx 黑色氧化铌靶，外观为黑 / 灰黑色致密陶瓷靶，内部是 NbO₂、低氧 Nb₂O₅等多相共存，富含氧空位；通过还原烧结、SPS 热压制备，氧含量是核心定制指标，电阻率可调范围很大（半导体→弱导电）；可加工圆靶、方靶、旋转管靶，支持背铜绑定；属于定制靶材，每一批 x 值不一样，镀膜性能会有差异，是低辐射玻璃、RRAM 行业热门靶材。
| 氧化铌靶材（NbOx）产品应用 |
薄膜应用：
1. Low‑E 低辐射玻璃、建筑 / 汽车镀膜、触控屏功能薄膜（行业用量最大）
2. RRAM 阻变存储器、神经形态器件、选择器薄膜
3. 光伏薄膜、光电变色器件、电致变色薄膜
4. 光学可调折射率薄膜、多层光学干涉膜
5. 半导体、TFT、扩散阻挡层、电容器功能薄膜
6. 科研镀膜、氧空位相关功能薄膜开发
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