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二氧化钛靶材(黑色)TiOx

二氧化钛靶材(黑色)TiOx
  • 二氧化钛靶材(黑色)TiOx
二氧化钛靶材(黑色)TiOx基本信息
分子式TiOx
纯度99.99%
CAS号无独立 CAS 号
摩尔质量无固定摩尔质量
密度3.7~4.1 g/cm³
熔点无单一熔点
沸点无固定沸点
溶解性(水)不溶于水、稀酸;可被氢氟酸、热浓硫酸缓慢腐蚀;常温下耐碱

二氧化钛靶材(黑色)TiOx产品概况

TiOx 氧化钛靶材为磁控溅射 PVD 陶瓷靶材,由钛的氧化物粉体经混料、成型、真空烧结 / 热压制备,可加工圆靶、方靶,可绑定铜背板。 x=2 的 TiO₂为绝缘介质,只能 RF 射频溅射;x<2 的低价 TiOx(Ti₃O₅为主)具备半导体导电性,可 DC 直流溅射。 薄膜光学、电学性能由氧指数 x 决定:x 越高,透光性越好、电阻率越高;x 越低,导电性越强,适合电阻型薄膜。溅射过程可通过通入氧气微调薄膜氧含量。

二氧化钛靶材(黑色)TiOx产品应用

薄膜应用:
1. 光学镀膜:TiO₂高折射率光学薄膜,增透膜、反射膜、滤光片、分光镜。
2. 半导体与 MEMS:介质绝缘层、钝化层、阻变存储器 RRAM 功能层(低价 TiOx)。
3. 薄膜传感器:氧敏传感器、光电传感器、气敏薄膜。
4. 光催化:TiO₂光催化薄膜,自清洁、防雾涂层。
5. 显示器件:LCD/OLED 绝缘层、光学补偿层。
6. 光伏电池:减反膜、钝化层。
7. 科研实验:磁控溅射、PLD,氧化钛薄膜、忆阻器、光电薄膜研究。

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