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产品中心
PRODUCTS
五氧化二钽靶材(Ta2O5)
| 五氧化二钽靶材(Ta2O5)基本信息 | |
| 分子式 | Ta2O5 |
| 纯度 | 99.99% |
| CAS号 | 1314-61-0 |
| 摩尔质量 | 441.893 |
| 密度 | 8.2 g/mL at 25 °C(lit.) |
| 熔点 | 1872 °C |
| 沸点 | 无明确沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于水，乙醇和矿酸，溶于氢氟酸 |
五氧化二钽靶材(Ta2O5)产品概况
五氧化二钽靶材是以 电容级钽粉（≥99.99%） 或 钽酸锂废料 为原料，经 等离子球化、 热等静压烧结（HIP） 或 反应磁控溅射自绑定 制备的浅灰/深灰色陶瓷靶材（密度＞8.2 g/cm³），专用于 射频溅射、 离子束沉积 制备高κ介质层、抗反射涂层及固态电解质膜。其核心优势在于 超高介电常数（κ=25-60）、 氧空位可编程性（Vₒ：0.5-5 at%） 及 辐射稳定性，通过 δ相稳定化、 纳米晶界工程 及 梯度导电背板设计，突破高脆性（莫氏硬度5.5）与溅射速率瓶颈。
| 五氧化二钽靶材(Ta2O5)产品应用 |
薄膜应用：
1. 光学镀膜（最大应用方向）：高折射率膜层，增透膜、激光干涉滤光片、分光膜、光学镜头镀膜，常和 SiO₂搭配叠膜Stanford A...
2. 半导体微电子：高 k 栅介质、DRAM 薄膜电容、MIM 电容绝缘层、阻变存储器 RRAM 功能层，漏电流低、介电性能稳定
3. 防腐蚀、耐磨硬质涂层：光学元件、金属器件防护膜，耐摩擦、耐环境侵蚀
4. 光电器件：光伏电池缓冲层、光电探测器介质层、光波导薄膜
5.科研：介质薄膜、离子导体、表面改性、低维器件研究试样
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