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氧化铜靶材(CuO)

氧化铜靶材(CuO)
  • 氧化铜靶材(CuO)
氧化铜靶材(CuO)基本信息
分子式CuO
纯度99.5%
CAS号1317-38-0
摩尔质量79.545 g/mol
密度6.315 g/cm³
熔点1326 ℃(高温下会分解失氧)
沸点无固定沸点
溶解性(水)不溶于水、乙醇;可溶于稀酸、氯化铵、氰化钾溶液

氧化铜靶材(CuO)产品概况

氧化铜靶材为黑色致密陶瓷溅射靶,单斜晶系,窄带隙 P 型半导体,具备气敏、光电催化特性;可做成圆靶、方靶、台阶靶,可背铜绑定;适合磁控溅射制备 CuO 功能薄膜,是薄膜光伏、气敏传感器、储能领域常用氧化物靶材,靶面黑色哑光。

氧化铜靶材(CuO)产品应用

薄膜应用:
1. 气敏传感器:对 CO、H₂S 等气体敏感,制备气体传感薄膜
2. 光伏薄膜电池:CIGS 薄膜太阳能电池吸收层、光电阴极材料
3. 储能器件:锂电池、超级电容器电极薄膜
4. 催化薄膜、光催化涂层
5. 半导体、显示、微电子功能薄膜、防腐抑菌涂层

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