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氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）

氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）
  • 氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）
氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）基本信息
分子式CeO2-Gd2O3
纯度99.9%、99.99%
CAS号无独立 CAS 号
摩尔质量随掺杂比例变化
密度7.1‑7.3 g/cm³
熔点约2200‑2400 ℃
沸点高温分解，无常压沸点
溶解性（水）不溶于水；稀酸中难溶；可溶于热浓酸、氢氟酸；可与熔融强碱反应

氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）产品概况

氧化钆掺杂氧化铈（GDC）靶材，以高纯氧化铈、氧化钆粉体为原料，配比后经成型、高温烧结 / 热压、热等静压工艺制备而成的复合陶瓷溅射靶材。主流产品形态为平面圆形、矩形靶，可钎焊绑定铜背靶适配溅射设备。

通过氧化钆掺杂，在氧化铈萤石晶格中引入氧空位，获得优异氧离子导电性能。靶材关键指标：纯度、致密度、掺杂配比均匀性、晶粒尺寸；致密度与成分均匀性直接影响溅射薄膜离子电导率与膜层一致性，主要采用射频磁控溅射沉积 GDC 功能薄膜。


氧化铈掺氧化钆靶材（CeO2-Gd2O3）产品应用

薄膜应用：
1.固体氧化物燃料电池 SOFC（核心应用）：溅射制备中温固体氧化物燃料电池电解质薄膜，氧离子电导率高，工作温度低于 YSZ 体系，用于中温 SOFC 电池片电解质层、复合电极功能层。
2.电化学氧传感器：氧离子传导薄膜，制备氧传感器、氧分压检测器件。
3.半导体微电子：高 k 介电栅介质薄膜、阻变存储器功能薄膜，微电子器件绝缘层。
4.催化与功能涂层：催化功能薄膜、透氧膜层，用于气体分离、催化器件。
5.新能源科研器件：各类电化学、光电科研实验薄膜样品。

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