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氧化铝蒸发料（Al2O3）

氧化铝蒸发料（Al2O3）
  • 氧化铝蒸发料（Al2O3）
氧化铝蒸发料（Al2O3）基本信息
分子式Al2O3
纯度99.99%
CAS号1344-28-1
摩尔质量101.961
密度3.97g/cm3
熔点2050ºC
沸点2980ºC
溶解性（水）不溶于水、醇、和醚，微溶于碱和酸

氧化铝蒸发料（Al2O3）产品概况

氧化铝蒸发料是以拜耳法氢氧化铝或高纯铝为原料，经高温烧结（＞1700℃）、冷等静压成型或电弧熔融制备的灰白色高纯陶瓷颗粒（纯度≥99.99%），专用于真空蒸镀制备光学镀膜、半导体绝缘层及耐磨涂层。其具备超高温稳定性（熔点2050℃）、极低蒸气压及宽带隙（8.8 eV），通过晶向控制（c轴择优取向）、致密化改性（密度＞3.95 g/cm³） 及掺杂调节，满足精密光学、微电子及超硬涂层的严苛要求。


氧化铝蒸发料（Al2O3）产品应用

◉ 深紫外光刻镜头
​193nm增透膜​
基底：熔融石英｜沉积温度：200℃
性能：
- 单面反射损失＜0.1%
- 波前畸变＜λ/50 @193nm
​工艺方案​：离子束辅助蒸发（IAD）优化膜层致密度
​◉ 功率半导体封装
​IGBT芯片钝化层​
击穿电压＞10kV｜漏电流＜1nA/cm²@200℃
​创新设计​：梯度Al₂O₃/SiNx叠层（界面电荷陷阱密度↓90%）
​◉ 航空发动机热障
​涡轮叶片粘结层​
1400℃氧化增重＜0.1mg/cm²（200小时）
​协同机制​：Al₂O₃抑制TGO层（NiAl涂层寿命↑300%）
◉ OLED水氧阻隔
​柔性显示封装膜​
WVTR＜10⁻⁶ g/m²/day @85℃/85%RH
弯曲半径＜2mm（10万次循环后阻隔性不变）

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