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碳化二钛靶材(Ti2C)

碳化二钛靶材(Ti2C)
  • 碳化二钛靶材(Ti2C)
碳化二钛靶材(Ti2C)基本信息
分子式Ti2C
纯度99.9%
CAS号12316-56-2
摩尔质量107.75 g/mol
密度3.9-4.3g/cm³
熔点约 1700 ℃高温分解,常压下不会直接熔融,高温易氧化、脱碳,分解生成 TiC 与金属钛
沸点无固定沸点
溶解性(水)不溶于水、稀酸、乙醇;常温耐碱;可被氢氟酸、浓热强酸、王水腐蚀;表面官能化 Ti₂CTₓ可在水中分散(单纯 Ti₂C 块体不溶于水)

碳化二钛靶材(Ti2C)产品概况

Ti₂C 碳化二钛靶材为磁控溅射 PVD 用 MAX 相靶材,采用钛粉、碳粉真空混料、成型、真空热压烧结制备,可加工圆靶、方靶,可绑定铜背板。 材料具有金属导电性,可 DC 直流溅射,也可 RF 射频溅射;层状晶体结构,是制备 Ti₂C 基 MXene 薄膜的前驱材料;靶材脆性较大,高温环境极易氧化,溅射需要真空 / 惰性气氛保护,防止脱碳、氧化生成 TiO₂。

区分提醒:TiC(一碳化钛)是硬质耐磨陶瓷;Ti₂C(碳化二钛)是 MAX 相层状材料,二者晶体结构、性能、用途完全不同。


碳化二钛靶材(Ti2C)产品应用

薄膜应用:
1. MXene 二维薄膜制备(核心用途):磁控溅射制备 Ti₂C 基 MXene 薄膜,用于超级电容器、储能电极。
2. 电化学催化薄膜:析氢、氧还原催化涂层,电催化器件研究。
3. 电磁屏蔽薄膜:高导电柔性电磁屏蔽涂层。
4. 传感器薄膜:气敏、电化学传感活性层,MEMS 微型传感器研发。
5. 微电子器件:导电接触层、扩散阻挡层薄膜科研。
6. 科研实验:磁控溅射、PLD 脉冲激光沉积,MAX 相、二维碳化物薄膜机理研究。

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