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碳化铌靶材（NbC）

碳化铌靶材（NbC）
  • 碳化铌靶材（NbC）
碳化铌靶材（NbC）基本信息
分子式NbC
纯度99.5%
CAS号12069-94-2
摩尔质量104.92 g/mol
密度7.6 g/cm3
熔点3500°C
沸点4300°C
溶解性（水）不溶于水、普通稀酸；可溶于硝酸 + 氢氟酸混合酸

碳化铌靶材（NbC）产品概况

碳化铌靶材为 NaCl 型立方晶系的金属碳化物溅射靶，呈灰黑色，具备金属导电性；采用热压烧结、HIP 热等静压工艺制备，可加工为圆形、矩形平面靶，支持铟焊绑定无氧铜背板。 NbC 超高熔点、高硬度、耐磨抗腐蚀、抗电迁移性能优异；本身具有导电性，直流 DC 与射频 RF 溅射均可使用。溅射薄膜硬度高、热稳定性好，广泛用于硬质涂层与半导体阻挡层。

碳化铌靶材（NbC）产品应用

薄膜应用：
1. 半导体芯片：铜互连工艺阻挡层，用于逻辑芯片、功率器件，有效阻挡铜扩散，抗电迁移；MEMS 器件耐高温保护层。
2. 硬质耐磨涂层：刀具、模具、精密机械零部件的耐磨、抗高温腐蚀 PVD 涂层，提升使用寿命。
3. 光学及装饰镀膜：耐磨装饰膜、红外光学元件耐高温保护涂层。
4. 超导、新能源领域：超导材料、燃料电池、储能器件的功能薄膜研究。
5. 显示行业：Micro-LED、OLED 器件的金属扩散阻挡层。

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