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氟化镱靶材（YbF3）

氟化镱靶材（YbF3）
  • 氟化镱靶材（YbF3）
氟化镱靶材（YbF3）基本信息
分子式YbF3
纯度99.99%
CAS号13760-80-0
摩尔质量230.04
密度4.01
熔点1157 °C
沸点2200 °C
溶解性（水）不溶于水和稀酸。

氟化镱靶材（YbF3）产品概况

        氟化镱靶材（YbF₃）是以高纯金属镱（Yb，纯度≥99.99%）与氟化剂为原料，通过真空热压烧结与表面钝化技术制备的稀土氟化物靶材，化学计量比Yb:F=1:3.00±0.02，密度≥7.12 g/cm³（理论密度≥95%）。其具备极低光学吸收（400-8000 nm波段吸收系数＜10⁻⁴ cm⁻¹）、高热稳定性（熔点＞1150℃）及优异抗潮解性（湿度＞90%环境下无水解），适配热蒸发、离子束溅射（IBS）等工艺，用于沉积红外增透膜、激光防护层及紫外截止滤光片。产品通过精准氧含量控制（O＜100 ppm）、亚微米晶粒细化（晶粒尺寸≤500 nm）及无裂纹致密结构，满足高能激光系统、空间光学器件及半导体光刻设备对低损耗镀膜材料的严苛需求，是高端光学镀膜与特种功能涂层的核心材料。
氟化镱靶材（YbF3）产品应用

氟化镱靶材（YbF₃）凭借其宽谱低损耗、超高激光损伤阈值及卓越环境稳定性，成为高能激光、红外光学与半导体光刻领域的战略级镀膜材料。
高能激光系统​：激光谐振腔低损耗反射膜（吸收损耗＜5 ppm）。
抗激光损伤防护层（阈值＞15 J/cm² @1064 nm）。
​红外光学​：中波红外（MWIR）窗口增透膜（3-5μm透过率＞99%）。
太赫兹波导氟化物涂层（衰减＜0.1 dB/cm）。
​半导体光刻​：EUV光刻机掩模保护膜（13.5 nm波段反射率优化）。
深紫外（DUV）光学元件防污染层。
​特种功能镀膜​：空间望远镜抗辐射氟化物膜层（质子辐照后透过率下降＜2%）。
海洋探测设备防盐雾腐蚀涂层。

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