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硅化锆靶材(ZrSi2)

硅化锆靶材(ZrSi2)
  • 硅化锆靶材(ZrSi2)
硅化锆靶材(ZrSi2)基本信息
分子式ZrSi2
纯度99.5%
CAS号12039-90-6
摩尔质量147.395
密度4.88
熔点1790ºC
沸点
溶解性(水)不溶于水。它不溶于酸、碱和王水。

硅化锆靶材(ZrSi2)产品概况

       硅化锆靶材(ZrSi₂)是以高纯锆、硅为原料,经真空热压烧结工艺制备的金属陶瓷材料,纯度≥99.95%,密度≥4.5 g/cm³。其兼具高熔点(>2200℃)、优异抗氧化性及半导体兼容特性,适配磁控溅射、电弧离子镀等工艺,用于沉积集成电路接触层、高温防护涂层及光伏薄膜。产品具备低电阻率(<200 μΩ·cm)、高膜层致密性及耐腐蚀性能,支持成分比例调控(如Zr/Si比)与尺寸定制(直径≤400mm),满足半导体器件、核反应堆包壳及航空航天高温部件表面强化需求,是高性能电子与极端工况防护领域的核心镀膜材料。

硅化锆靶材(ZrSi2)产品应用

主要应用于半导体扩散阻挡层、高温防护涂层及核反应堆材料表面工程

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