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氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）

氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）
  • 氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）
氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）基本信息
分子式SnO₂-SnF₂
纯度99.99%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性（水）

氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）产品概况

        高纯二氧化锡（SnO₂ ≥99.99%）为基体，掺入精确配比的氟化锡（SnF₂）作为掺杂剂，通过热等静压烧结（HIP）或气氛保护烧结制备的陶瓷溅射靶材。具备以下关键特性：

高化学纯度：总金属杂质含量 <50 ppm，硫/碳杂质可控

氟掺杂均匀性：SnF₂掺杂浓度 2–10 wt.% 可调（±0.5%偏差）

致密化结构：密度 ≥95%理论值（6.95 g/cm³），气孔率 <1%

导电性能：靶材体电阻率 10⁻²–10⁻³ Ω·cm（优于纯SnO₂靶材）

        氧化锡掺氟化锡靶材以 “低成本+高稳定性+宽光谱调控” 三重优势，成为ITO替代解决方案的核心材料。其溅射的FTO薄膜在 光伏降本增效、智能窗长效服役、特种防护涂层 领域具有不可替代性，尤其契合可持续发展需求。靶材致密度与掺杂均匀性（晶界F偏析≤5%）直接决定薄膜电导率与雾度表现，需通过严格HIP工艺控制。


氧化锡掺氟化锡靶材（SnO₂-SnF₂）产品应用

◉ 钙钛矿光伏革命​
采用 ​FTO/ITO叠层电极​ 实现双面光捕获：
顶电极透过率 ​93.2%​​（380-780nm宽光谱）
转换效率突破 ​26.08%​​（单结电池，经NREL认证）
湿热衰减率 ​​＜3%​​（1000小时，IEC61215标准）
​◉ 电致变色智能窗​
​磁控溅射沉积FTO膜​ 作为基础导电层：
方阻 ​**8 Ω/□**​（膜厚200nm）
调制幅度 ​70%​​（可见光波段）
循环寿命 ​**＞50,000次**​（ΔT＞55%）
​◉ 电磁屏蔽透明装甲​
在战机座舱应用中：
屏蔽效能 ​45 dB​（18-40 GHz毫米波）
抗打击强度 ​2.5 J/cm²​（符合MIL-DTL-1114C标准）
​◉ 低温环境显示技术​
​OLED柔性触控模组采用FTO基板：
弯折半径 ​3 mm​（10万次循环电阻波动＜5%）
-40℃低温驱动电压增量 ​​≤0.3V​
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