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二硫化钛（TiS2）

二硫化钛（TiS2）
  • 二硫化钛（TiS2）
二硫化钛（TiS2）基本信息
分子式TiS2
纯度99.5%
CAS号12039-13-3
摩尔质量112.00 g/mol
密度2.8-3.1g/cm³
熔点无单一熔点
沸点无固定沸点
溶解性（水）不溶于水、稀盐酸、稀硫酸；可被浓硝酸、热浓硫酸分解析出单质硫；常温下耐碱

二硫化钛（TiS2）产品概况

TiS₂二硫化钛靶材为磁控溅射 PVD 硫族化合物靶材，采用高纯钛粉、硫粉真空固相合成、成型、真空热压烧结制备，可加工圆靶、方靶，可绑定铜背板。 六方 CdI₂型层状晶体结构，层间依靠弱范德华力结合；具备半金属导电特性，可 DC 直流溅射，也可 RF 射频溅射；靶材脆性大，溅射必须高真空 / 惰性气氛，高温下硫极易流失，溅射工艺需要控制功率，补偿薄膜硫缺位。

二硫化钛（TiS2）产品应用

薄膜应用：
1. 储能电池薄膜（核心）：锂 / 钠离子电池、固态电池电极薄膜，TiS₂层间可嵌入锂离子，用于薄膜电池正极研究。
2. 二维电子器件：场效应晶体管、二维异质结器件。
3. 光电探测器：可见光 / 近红外光电探测薄膜。
4. 电催化薄膜：电解水析氢 HER 催化涂层。
5. 真空固体润滑涂层：太空、真空设备低摩擦润滑薄膜。
6. 科研实验：磁控溅射、PLD 脉冲激光沉积，TMD 层状材料、二维薄膜机理研究。

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