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二硫化钨靶材（WS2）

二硫化钨靶材（WS2）
  • 二硫化钨靶材（WS2）
二硫化钨靶材（WS2）基本信息
分子式WS2
纯度99.9%
CAS号12138-09-9
摩尔质量247.97 g/mol
密度7.5 g/cm³
熔点无固定熔点
沸点无明确沸点
溶解性（水）不溶于水、稀酸、稀碱、乙醇；可被浓硝酸 + 氢氟酸混合酸、熔融碱腐蚀；常温化学稳定性较好

二硫化钨靶材（WS2）产品概况

二硫化钨靶材是以层状六方晶系 WS₂粉末为原料，经真空热压或 SPS 烧结制成的致密硫化物陶瓷溅射靶。WS₂属于过渡金属二硫族化合物（TMDs），层间依靠弱范德华力结合，自带固体自润滑特性，单层 WS₂是直接带隙半导体。

二硫化钨靶材（WS2）产品应用

薄膜应用：
1. 二维半导体光电器件：制备单层 / 多层 WS₂薄膜，场效应晶体管 FET、光电探测器、光发射器件，微电子、二维材料科研方向
2. 自润滑耐磨薄膜：MEMS 微机电系统、精密轴承、阀门、刀具表面固体润滑涂层，低摩擦系数，适用于真空高温减摩工况
3. 电催化薄膜：析氢催化电极薄膜，新能源电解水催化材料研究
4. 传感器薄膜：气敏传感器、压力传感器功能膜层
5.光学涂层：红外、光学器件保护薄膜

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