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三硒化二镧靶材(La2Se3)

三硒化二镧靶材(La2Se3)
  • 三硒化二镧靶材(La2Se3)
三硒化二镧靶材(La2Se3)基本信息
分子式La₂Se₃
纯度99.9%
CAS号12031-51-5
摩尔质量514.70 g/mol
密度6.25 g/cm³
熔点1080 ℃
沸点高温下发生分解、硒挥发,无明确沸点;高温易失硒,靶材烧结 / 溅射温度不能过高。
溶解性(水)不溶于水;遇酸发生反应,释放剧毒硒化氢 (H₂Se) 气体;可被强氧化剂分解。严禁接触酸类。

三硒化二镧靶材(La2Se3)产品概况

三硒化二镧(La₂Se₃)溅射靶材,稀土硒化物半导体材料,立方 Th₃P₄缺陷型晶体结构,带隙约 2.6 eV。 由高纯镧、硒原料通过固相合成得到 La₂Se₃粉体,热压 / 热等静压致密化制备靶坯;可加工圆靶、方靶,可绑定铜背板。 材料化学稳定性差:在潮湿空气中缓慢氧化、硒流失,靶材必须真空 / 惰性气体密封保存;高温环境下容易发生硒元素挥发,造成薄膜化学计量比偏移。

三硒化二镧靶材(La2Se3)产品应用

薄膜应用:
1. 热电薄膜研发:稀土硫族化合物热电转换薄膜,高温热电材料研究(La₂Se₃在高温下热电性能优异)
2. 光电器件薄膜:宽禁带半导体薄膜,光电探测器、红外光学薄膜研发
3. 储能电极材料:超级电容器、固态电池电极薄膜基础研究
4. 稀土硫族化合物基础科研:薄膜生长、缺陷调控、材料机理研究
5. 红外窗口、非线性光学涂层研发

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