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磷化铌(NbP)靶材

磷化铌(NbP)靶材
  • 磷化铌(NbP)靶材
磷化铌(NbP)靶材基本信息
分子式NbP
纯度99.99%
CAS号12034‑66‑1
摩尔质量123.88
密度约7.3 g/cm³
熔点约 2000 °C （通常报道为 2000 °C 以上分解）
沸点极高，常压下未明确（通常升华或分解前）
溶解性（水）不溶于水，常规溶剂不溶解

磷化铌(NbP)靶材产品概况

磷化铌（NbP）是外尔拓扑半金属材料，属于铌‑磷二元化合物，靶材采用粉末烧结工艺制备，多晶陶瓷结构，用于磁控溅射制备 NbP 功能薄膜。

  • 靶材形态：平面圆靶（最大直径470mm）、方靶（单块最长420mm），可按需定制尺寸，可焊接铜背板；

  • 特点：高载流子迁移率、超大不饱和磁阻；超薄薄膜可实现极低电阻率，薄膜导电性能优于同厚度铜薄膜；

  • 市场现状：以科研定制为主，标准化现货少，Nb/P 原子配比可定制，磷元素易挥发，烧结工艺难度较高。


磷化铌(NbP)靶材产品应用

1. **自旋电子学、拓扑半金属科研**
制备 NbP 拓扑半金属薄膜，外尔半金属基础科研，磁输运、磁阻效应器件研究。
2. **微电子、新型互连薄膜**
亚 5nm 下一代纳米电子互连薄膜，超薄低阻导电薄膜，薄膜电阻率低于铜，面向后摩尔时代芯片互联研究。
3. **电催化材料**
析氢反应电催化薄膜、锂硫电池功能涂层，过渡金属磷化物催化方向实验镀膜。
4. **PVD 基础薄膜研发**
磁控溅射工艺开发，新材料薄膜机理研究，高校实验室、科研院所为主。

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