Ketai new materials can provide customization of any combination of materials with almost all elements (except radioactive elements) in the "yuansuo periodic table". Some products have not been updated in time. Please consult customer service for special customization needs.
2025-04
在薄膜沉积技术的快速发展中,氧化铈(CeO₂)靶材凭借其独特的物理化学特性成为关键材料。作为半导体、显示技术、光学镀膜等领域的核心组件,氧化铈靶材的性能直接影响薄膜的均匀性、稳定性和功能特性。...
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《谷雨·科泰新耕》谷雨斜织赣江烟 纳米银丝绣锦年晶膜浸透清明露 碳纤织就牡丹天实验室中秧初绿 方程式里絮正绵且看科泰耕云手 一卷芳纶万顷田谷雨丨二十四节气中的第六个节气,每年公历4月19日至21日交节,太阳到达黄经30°。此时雨量渐丰,百谷萌发,春色渐入尾声。古籍...
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氧化物陶瓷靶材作为薄膜沉积技术的关键材料,其制备工艺直接影响薄膜的均匀性、致密性及性能稳定性。湿法成型与烧结工艺作为其中的核心环节,对靶材的微观结构和最终性能起着决定性作用。...
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随着新能源汽车产业向高压化、高效化、轻量化方向加速演进,碳化硅(SiC)陶瓷靶材凭借其独特的材料特性与工艺优势,正成为新一代功率半导体的核心基础材料。本文从技术特性、应用场景、市场趋势及产业挑战等多维度,探讨碳化硅靶材在新能源汽车领域的未来需求潜力。...
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铝铜合金靶材作为磁控溅射技术中的关键材料,其性能直接决定薄膜沉积的质量与效率。本文聚焦纯度、粒径、密度三大核心指标,结合晶粒取向与均匀性,系统解析其对溅射性能的影响机制。...
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氧化铝靶材作为薄膜沉积领域的关键材料,其制备工艺直接影响薄膜的均匀性、纯度及稳定性。本文系统对比传统工艺(粉末冶金、烧结法)与现代技术(溶胶-凝胶、CVD、溅射法),并解析新兴工艺(HIP/CIP、激光烧结、微波烧结)的技术特点,为不同应用场景的工艺选择提供参考。...
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溅射镀膜作为物理气相沉积(PVD)的核心技术,广泛应用于半导体、光伏、显示面板等领域。然而,靶材寿命短、镀膜性能与耐用性难以兼顾的问题,已成为制约生产效率和成本控制的关键瓶颈。本文将从材料科学、工艺优化和结构设计三个维度,系统探讨靶材寿命提升与性能平衡的综合解决方案。...
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随着半导体、光伏、显示面板等高新技术产业的快速发展,异形靶材(非标准尺寸、复杂几何形状的溅射靶材)的应用需求显著增加。然而,其加工过程中面临的非标尺寸适配性差、特殊形状精度控制难、材料利用率低等问题,成为制约高端制造的关键瓶颈。本文从工艺、设备、检测等维度探讨解决方案。...
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